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in den letzten zehn jahren hat sich die technologie der heimischen lithografiemaschinen weiter weiterentwickelt, und es wurden gewisse fortschritte von herkömmlichen geräten mit 90-nm-auflösung bis hin zur neuesten version mit 65-nm-auflösung erzielt. im vergleich zu fortgeschrittenen ausländischen geräten besteht jedoch immer noch eine lücke in der genauigkeit und leistung inländischer lithografiemaschinen. dies ist insbesondere im bereich der chipherstellung wichtig, da die präzision der fotolithographiemaschine direkt über die leistung und qualität des chips entscheidet.

im jahr 2023 wird china der zweitgrößte markt für asml sein, führend nach umsatz und arfi-anteil. dies spiegelt die wettbewerbsfähigkeit inländischer lithografiemaschinen auf dem internationalen markt wider und führt auch dazu, dass inländische unternehmen aktiver in forschung und entwicklung investieren und sich bemühen, technische barrieren zu überwinden.

der weg zur entwicklung ist jedoch nicht einfach. aufgrund der exportkontrollen der vereinigten staaten für fortschrittliche chip-herstellungstechnologie und der weiteren verschärfung des exports von fortschrittlichem duv durch asml stehen inländische hersteller von lithografiemaschinen vor großen herausforderungen.

dennoch ist der technologische fortschritt der heimischen lithographiemaschinen immer noch erfreulich. die neue generation von arf-lithographiemaschinen mit einer auflösung von 65 nm hat großes potenzial gezeigt und spielt eine schlüsselrolle bei der erweiterung und unabhängigen steuerung inländischer waferfabriken.

einige experten glauben, dass die offizielle offenlegung der neuesten fortschritte bei inländischen lithografiemaschinen nicht nur ein schlüsselfaktor für die förderung der entwicklung der branche ist, sondern auch dem vertrauen in die inländische industriekette neue impulse verleiht. gleichzeitig ergeben sich dadurch auch neue chancen für die entwicklung der heimischen chipfertigung.

dies hat dazu geführt, dass inländische hersteller von lithografiemaschinen aktiver in forschung und entwicklung investieren und sich bemühen, technische barrieren zu überwinden. mit der kontinuierlichen weiterentwicklung der technologie und der unterstützung nationaler richtlinien werden heimische lithografiemaschinen die möglichkeit haben, in zukunft eine größere rolle zu spielen.