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지난 10년 동안 국내 노광기 기술은 지속적으로 발전해 왔으며, 기존의 90nm 해상도 장비에서 65nm 해상도의 최신 장비까지 일정한 진전을 이루었습니다. 그러나 해외 선진 수준과 비교하면 국내 노광기의 정확도와 성능에는 여전히 격차가 있다. 이는 리소그래피 기계의 정밀도가 칩의 성능과 품질을 직접적으로 결정하기 때문에 칩 제조 분야에서 특히 중요합니다.

2023년 중국은 매출과 arfi 점유율을 앞세워 asml의 두 번째로 큰 시장이 될 것이다. 이는 국제시장에서 국내 노광기계의 경쟁력을 반영하는 동시에, 국내 기업들이 연구개발에 더욱 적극적으로 투자하고 기술 장벽을 돌파하기 위해 노력하게 만드는 요인이다.

그러나 발전의 길은 쉽지 않습니다. 첨단 칩 제조 기술에 대한 미국의 수출 규제와 asml의 첨단 duv 수출 규제로 인해 국내 리소그래피 기계 제조업체는 큰 어려움에 직면해 있습니다.

그럼에도 불구하고 국내 노광기의 기술적 진보는 여전히 만족스럽다. 차세대 65nm 해상도 arf 리소그래피 기계는 강력한 잠재력을 보여주었으며 국내 웨이퍼 팹의 확장 및 독립적인 제어에 핵심적인 역할을 합니다.

일부 전문가들은 국내 리소그래피 기계의 최신 진행 상황을 공식적으로 공개하는 것이 산업 발전을 촉진하는 핵심 요소일 뿐만 아니라 국내 산업 체인에 대한 신뢰에 새로운 자극을 불어넣는다고 믿습니다. 동시에 이는 국내 칩 제조 발전에 새로운 기회를 제공합니다.

이로 인해 국내 리소그래피 기계 제조업체는 연구 개발에 더욱 적극적으로 투자하고 기술 장벽을 돌파하기 위해 노력하고 있습니다. 지속적인 기술의 발전과 국가정책의 지원으로 국내 노광기계는 앞으로 더 큰 역할을 할 수 있는 기회를 갖게 될 것입니다.