한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

過去 10 年間、国内のリソグラフィー装置技術は進歩を続けており、90nm 解像度の従来の装置から 65nm 解像度の最新バージョンまで一定の進歩が見られました。しかし、海外の先進レベルと比較すると、国産のリソグラフィー装置の精度や性能にはまだ差があります。リソグラフィー装置の精度がチップの性能と品質に直接影響するため、これはチップ製造の分野では特に重要です。

2023 年には、中国は asml の第 2 位の市場となり、売上高と arfi シェアで首位を獲得します。これは、国際市場における国内リソグラフィー装置の競争力を反映しており、また、国内企業が研究開発にさらに積極的に投資し、技術的障壁を突破するよう努めています。

しかし、発展への道のりは簡単ではありません。米国の先端チップ製造技術に対する輸出規制と asml による先端 duv の輸出のさらなる強化により、国内のリソグラフィー装置メーカーは大きな課題に直面しています。

それにも関わらず、国産露光装置の技術進歩は依然として目覚ましいものがあります。新世代の 65nm 解像度 arf リソグラフィー装置は、強力な可能性を示しており、国内ウェーハ工場の拡大と独立制御において重要な役割を果たしています。

一部の専門家は、国内リソグラフィー装置の最新の進歩を公式に公開することは、業界の発展を促進する重要な要素であるだけでなく、国内産業チェーンへの信頼に新たな刺激を与えると信じている。同時に、これは国内のチップ製造の発展に新たな機会ももたらします。

このため、国内の露光装置メーカーは研究開発への投資を積極化し、技術の壁を突破しようと努めています。技術の継続的な発展と国家政策の支援により、国産リソグラフィー装置は将来的により大きな役割を果たす機会が得られるでしょう。