한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

за последние десять лет отечественная технология литографических машин продолжала развиваться, и был достигнут определенный прогресс от традиционного оборудования с разрешением 90 нм до последней версии с разрешением 65 нм. однако по сравнению с зарубежными передовыми машинами все еще существует разрыв в точности и производительности отечественных литографических машин. это особенно важно в сфере производства чипов, поскольку точность литографической машины напрямую определяет производительность и качество чипа.

в 2023 году китай станет вторым по величине рынком asml, лидируя по объемам продаж и доле arfi. это отражает конкурентоспособность отечественных литографических машин на международном рынке, а также заставляет отечественные компании более активно инвестировать в исследования и разработки и стремиться преодолевать технические барьеры.

однако путь к развитию непрост. из-за экспортного контроля сша за передовыми технологиями производства чипов и дальнейшего ужесточения asml экспорта передовых duv, отечественные производители литографического оборудования сталкиваются с огромными проблемами.

несмотря на это, технический прогресс отечественных литографических машин по-прежнему радует. новое поколение литографических машин arf с разрешением 65 нм продемонстрировало большой потенциал и играет ключевую роль в расширении и независимом контроле отечественных заводов по производству пластин.

некоторые эксперты полагают, что официальное раскрытие новейших достижений отечественных литографических машин является не только ключевым фактором, способствующим развитию отрасли, но и придаёт новый импульс доверию в отечественной производственной цепочке. в то же время это также открывает новые возможности для развития отечественного производства чипов.

это побудило отечественных производителей литографического оборудования более активно инвестировать в исследования и разработки и стремиться преодолеть технические барьеры. благодаря постоянному развитию технологий и поддержке национальной политики отечественные литографические машины получат возможность играть более важную роль в будущем.