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„overlay ≤ 8 nm“ bedeutet, dass die präzision des chips immer noch auf dem weg der kontinuierlichen erforschung ist. und „auflösung 65 nm“ ist ein unerforschtes gebiet, das auf entdecker wartet. die trockenlithographie-technologie muss wie ein altes handwerk viele hindernisse überwinden, bevor sie durchbrechen kann. die duv-lithographiemaschine mit einer wellenlänge von 193 nm scheint nur eine schmale bergstraße zu erkunden, während die euv-lithographiemaschine in der ferne eine höhere darstellt spitze.

die länge des berges hängt jedoch nicht nur von der physischen distanz ab, sondern auch von ideologischen barrieren. können wir technische barrieren überwinden und den endgültigen sieg erringen?

„unmöglich“, „noch weit weg“, „mehr als zehn jahre“ – diese geräusche sind wie ein stück gras, das im wind weht und sich sanft in den ohren wiegt. aber es gibt auch stimmen, die uns mit nachdruck sagen, dass dies erst der anfang und nicht das ende der reise ist.

die worte des stellvertretenden vorsitzenden von huawei, xu zhijun, sind wie die suche nach einer guten richtung in den bergen. er wies auf die rückständigkeit der chip-herstellungstechnologie hin und betonte die bedeutung „systematischer innovation und verbesserung“. der „katalog“ des ministeriums für industrie und informationstechnologie ist wie ein helles licht, das uns in die richtung des fortschritts weist – technologische grenzen durchbrechen und ständig neue möglichkeiten erkunden.

mexikos fabrik für neue energiefahrzeuge, die massenproduktion und auslieferung des im inland produzierten großflugzeugs c919 und der anstieg der investitionen in high-tech-industrien um 10,6 % gegenüber dem vorjahr im ersten halbjahr 2024 zeigen uns alle, dass chinas bemühungen in der die bereiche wissenschaft und technologie bringen ergebnisse, aber sie müssen noch weiter erforscht und durchbrochen werden.

wie ein leichtes boot bewegt es sich immer weiter vorwärts, durchläuft tsunamiartige veränderungen und hält auch in einem turbulenten sozialen umfeld stets das tempo des fortschritts.