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"overlay ≤ 8nm" significa que a precisão do chip ainda está no caminho da exploração contínua. e a “resolução 65nm” é um território inexplorado, à espera de exploradores. a tecnologia de litografia seca, como uma nave antiga, precisa superar muitos obstáculos antes de poder romper. a máquina de litografia duv com um comprimento de onda de 193 nm parece estar apenas explorando uma estrada estreita na montanha, enquanto a máquina de litografia euv à distância representa um nível mais alto. pico superior.

no entanto, a extensão da montanha não reside apenas na distância física, mas também nas barreiras ideológicas. conseguiremos superar as barreiras técnicas e alcançar a vitória final?

“impossível”, “ainda longe”, “mais de dez anos” - esses sons são como um pedaço de grama soprado pelo vento, balançando suavemente nos ouvidos. mas também há vozes que nos dizem com firmeza que este é apenas o começo da jornada, não o fim.

as palavras do vice-presidente da huawei, xu zhijun, são como a busca por uma direção brilhante nas montanhas. ele apontou o atraso da tecnologia de fabricação de chips e enfatizou a importância da "inovação e melhoria sistemática". o “catálogo” do ministério da indústria e tecnologia da informação é como uma luz brilhante que nos guia na direção do progresso - rompendo fronteiras tecnológicas e explorando constantemente novas possibilidades.

a nova fábrica de veículos energéticos do méxico, a produção em massa e entrega da grande aeronave c919 produzida internamente e o aumento anual de 10,6% no investimento em indústrias de alta tecnologia no primeiro semestre de 2024 nos dizem que os esforços da china no o campo da ciência e da tecnologia está produzindo resultados, mas ainda precisa continuar explorando e avançando.

como um barco leve, ele continua avançando, passando por mudanças semelhantes às de um tsunami, e sempre mantém o ritmo do progresso, mesmo em um ambiente social turbulento.