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"overlay ≤ 8nm" significa che la precisione del chip è ancora sulla strada della continua esplorazione. e la "risoluzione 65 nm" è un territorio inesplorato, in attesa di esploratori. la tecnologia della litografia a secco, come un mestiere antico, deve superare molti ostacoli prima di poter sfondare. la macchina per litografia duv con una lunghezza d'onda di 193 nm sembra semplicemente esplorare una stretta strada di montagna, mentre la macchina per litografia euv in lontananza rappresenta una posizione più alta. picco.
tuttavia, la lunghezza della montagna non risiede solo nella distanza fisica, ma anche nelle barriere ideologiche. possiamo superare le barriere tecniche e ottenere la vittoria finale?
"impossibile", "ancora lontano", "più di dieci anni": questi suoni sono come un filo d'erba mosso dal vento, che ondeggia dolcemente nelle orecchie. ma ci sono anche voci che ci dicono con fermezza che questo è solo l’inizio del viaggio, non la fine.
le parole del vicepresidente di huawei, xu zhijun, sono come cercare una direzione luminosa in montagna. ha sottolineato l'arretratezza della tecnologia di produzione dei chip e ha sottolineato l'importanza di "innovazione e miglioramento sistematici". il "catalogo" del ministero dell'industria e dell'informazione è come una luce brillante che ci guida nella direzione del progresso, superando i confini tecnologici ed esplorando costantemente nuove possibilità.
la fabbrica messicana di veicoli a nuova energia, la produzione di massa e la consegna del grande aereo c919 di produzione nazionale e l’aumento del 10,6% su base annua degli investimenti nelle industrie ad alta tecnologia nella prima metà del 2024 ci dicono tutti che gli sforzi della cina nel campo della scienza e della tecnologia stanno dando risultati, ma devono ancora continuare a esplorare e sfondare.
come una barca leggera, continua ad andare avanti, attraversando cambiamenti simili a tsunami, e mantiene sempre il ritmo del progresso anche in un ambiente sociale turbolento.