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"superposición ≤ 8 nm" significa que la precisión del chip todavía está en el camino de la exploración continua. y la "resolución de 65 nm" es un territorio inexplorado que espera a los exploradores. la tecnología de litografía seca, como una artesanía antigua, necesita superar muchos obstáculos antes de poder abrirse paso. la máquina de litografía duv con una longitud de onda de 193 nm parece estar explorando una estrecha carretera de montaña, mientras que la máquina de litografía euv en la distancia representa una más alta. pico.

sin embargo, la longitud de la montaña no sólo reside en la distancia física, sino también en las barreras ideológicas. ¿podremos superar las barreras técnicas y lograr la victoria final?

"imposible", "aún lejos", "más de diez años": estos sonidos son como un trozo de hierba que se mueve con el viento y se balancea suavemente en los oídos. pero también hay voces que nos dicen firmemente que este es sólo el comienzo del viaje, no el final.

las palabras del vicepresidente de huawei, xu zhijun, son como buscar una dirección brillante en las montañas. señaló el atraso de la tecnología de fabricación de chips y enfatizó la importancia de la "innovación y mejora sistemáticas". el "catálogo" del ministerio de industria y tecnología de la información es como una luz brillante que nos guía en la dirección del progreso, rompiendo fronteras tecnológicas y explorando constantemente nuevas posibilidades.

la fábrica de vehículos de nueva energía de méxico, la producción y entrega en masa del gran avión c919 de producción nacional y el aumento interanual del 10,6% en la inversión en industrias de alta tecnología en el primer semestre de 2024 nos dicen que los esfuerzos de china en el el campo de la ciencia y la tecnología está dando resultados, pero aún necesita continuar explorando y avanzando.

como un barco ligero, sigue avanzando, pasando por cambios similares a los de un tsunami, y siempre mantiene el ritmo del progreso incluso en un entorno social turbulento.