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山の光


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「オーバーレイ ≤ 8nm」は、チップの精度がまだ継続的な探求の途上にあることを意味します。そして「解像度65nm」は探検家を待っている未踏の領域です。ドライ リソグラフィー テクノロジーは、古代の工芸品のように、突破するまでに多くの障害を克服する必要があります。波長 193nm の duv リソグラフィー マシンは狭い山道を探索しているように見えますが、遠くにある euv リソグラフィー マシンはより高いレベルを表しています。頂上。

しかし、その山の長さは物理的な距離だけでなく、思想的な障壁にも依存します。我々は技術的な障壁を乗り越えて最終的な勝利を達成できるでしょうか。

「不可能」「まだ遠い」「十年以上」――それらは風に吹かれて耳元でそっと揺れる草のような音。しかし、これは旅の終わりではなく始まりに過ぎないとしっかりと伝える声もあります。

ファーウェイ副会長の徐志軍氏の言葉は、山中に明るい方向を模索するようなもので、チップ製造技術の後進性を指摘し、「体系的な革新と改善」の重要性を強調した。工業情報化部の「カタログ」は、私たちを進歩の方向へ導く明るい光のようなもので、技術の限界を突破し、常に新たな可能性を探求します。

メキシコの新エネルギー車工場、国産大型航空機c919の量産・納入、2024年上半期のハイテク産業への投資が前年比10.6%増加したことなどは、いずれも中国の中国の努力を物語っている。科学技術の分野では成果が出てきていますが、まだまだ探索と突破を続ける必要があります。

津波のような変化を乗り越え、光の船のように前に進み、激動する社会環境の中でも常に進歩を続けます。