한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

бытовая литографическая машина duv с разрешением 65 нм представляет собой прогресс и развитие отечественной технологии литографии, но ее возможности ограничены и могут удовлетворить только потребности зрелого процесса производства чипов 55-65 нм. заводская стандартная точность наложения относительно низкая, и реальные эксплуатационные ошибки будут увеличиваться. это также связано с ограничением окна управления наложением для одной экспозиции.

в последние годы ведущие международные гиганты литографических технологий, такие как asml, постоянно внедряли новые продукты и добились значительных технологических прорывов с помощью передовых технологий и оборудования, таких как asml nxt: 1970 и asml nxt: 1980. эти машины обеспечивают гарантию массового производства по 28-нм техпроцессу и даже возглавляют прогресс индустрии производства пластин.

ограничения технологии однократного воздействия делают множественное воздействие критически важным, особенно при точности наложения 5,5 нм и 2,75 нм, технология многократного воздействия может обеспечить более низкие требования к точности, тем самым открывая новый путь к прорыву в процессе.

однако отечественные производители литографического оборудования сталкиваются с огромными проблемами. переход от машин сухой литографии дуф к машинам иммерсионной литографии дув требует преодоления технических трудностей. примерно в 2010-х годах asml, опираясь на преимущества машин для иммерсионной литографии duv, достигла абсолютного лидерства в области литографических технологий и полностью разрушила структуру рынка литографии того времени.

поэтому отечественным производителям литографических машин необходимо постоянно исследовать новые технические пути и пути инноваций, а также стремиться повысить уровень и точность технологии литографии, чтобы выделиться на высококонкурентном рынке производства чипов.