한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

65nm रिजोल्यूशनयुक्तं घरेलु duv लिथोग्राफी यन्त्रं घरेलुशिलालेखनप्रौद्योगिक्याः प्रगतिविकासं च प्रतिनिधियति, परन्तु तस्य क्षमता सीमितं भवति तथा च केवलं 55-65nm इत्यस्य परिपक्वप्रक्रियाचिपनिर्माणस्य आवश्यकतानां समर्थनं कर्तुं शक्नोति कारखानामानक-ओवरले-सटीकता तुल्यकालिकरूपेण न्यूना भवति, तथा च वास्तविक-सञ्चालन-दोषाः वर्धन्ते, एतत् एकस्य एक्सपोजरस्य कृते आच्छादन-नियन्त्रण-विण्डो-सीमायाः अपि सम्बद्धम् अस्ति ।

अन्तिमेषु वर्षेषु एएसएमएल इत्यादीनां अन्तर्राष्ट्रीयप्रमुखशिलालेखनप्रौद्योगिकीविशालकायानां निरन्तरं नूतनानां उत्पादानाम् परिचयः कृतः अस्ति तथा च उन्नतप्रौद्योगिक्याः उपकरणानां च सह महत्त्वपूर्णाः प्रक्रियासु सफलताः प्राप्ताः, यथा एएसएमएल एनएक्सटी: १९७० तथा एएसएमएल एनएक्सटी: १९८० एते यन्त्राणि २८nm प्रक्रियायाः सामूहिक-उत्पादनस्य गारण्टीं ददति अपि च वेफर-निर्माण-उद्योगस्य प्रगतेः नेतृत्वं कुर्वन्ति ।

एकल-एक्सपोजर-प्रौद्योगिक्याः सीमाः बहु-एक्सपोजरं महत्त्वपूर्णं कुर्वन्ति विशेषतः 5.5nm तथा 2.75nm इत्यस्य ओवरले-सटीकतायाः अन्तर्गतं बहु-एक्सपोजर-प्रौद्योगिकी न्यून-सटीकता-आवश्यकताः प्राप्तुं शक्नोति, येन नूतनः प्रक्रिया-भङ्ग-मार्गः उद्घाटितः भवति

परन्तु घरेलुशिलालेखनयन्त्रनिर्मातृणां समक्षं महतीः आव्हानाः सन्ति । शुष्क-डीयूवी-लिथोग्राफी-यन्त्रेभ्यः विसर्जन-डीयूवी-लिथोग्राफी-यन्त्रेभ्यः संक्रमणार्थं तकनीकी-कठिनतानां निवारणस्य आवश्यकता वर्तते । २०१० तमे दशके एएसएमएल इत्यनेन लिथोग्राफी-प्रौद्योगिक्याः क्षेत्रे निरपेक्षं अग्रणीस्थानं प्राप्तुं विसर्जन-डीयूवी-लिथोग्राफी-यन्त्राणां लाभानाम् उपरि अवलम्बितम् आसीत् तथा च तस्मिन् समये लिथोग्राफी-बाजार-संरचनायाः पूर्णतया विध्वंसः कृतः

अतः घरेलुशिलालेखनयन्त्रनिर्मातृणां निरन्तरं नूतनानां तकनीकीमार्गाणां नवीनतामार्गाणां च अन्वेषणस्य आवश्यकता वर्तते, तथा च अत्यन्तं प्रतिस्पर्धात्मके चिपनिर्माणविपण्ये विशिष्टतां प्राप्तुं लिथोग्राफीप्रौद्योगिक्याः स्तरं सटीकता च सुधारयितुम् प्रयत्नः करणीयः अस्ति